›› 2008, Vol. 30 ›› Issue (6): 694-696.
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龚恩乐 刘镒 方之颢 于杰
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本文用六方氮化硼和石墨靶材采用射频(频率为13.56MHz)磁控溅射法沉积硼碳氮薄膜，得到的硼碳氮薄膜可用红外，拉曼表征。工作气压从0.2Pa升高到6.0Pa。我们可以观察到工作气压可以明显的改变硼碳氮薄膜的晶体结构和结晶度。硼碳氮薄膜的半高宽随工作气压的增加而变化并且在工作气压1.0Pa时得到较好结晶度的薄膜。
关键词: 硼碳氮薄膜, 射频磁控溅射, 工作气压, 结晶度, 半高宽
中图分类号:
TB43
龚恩乐 刘镒 方之颢 于杰. 工作气压对磁控溅射法制备硼碳氮薄膜结晶度的影响[J]. , 2008, 30(6): 694-696.
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