›› 2012, Vol. 34 ›› Issue (1): 29-34.

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正背栅SOI-MOSFET二维阈值电压解析模型

张国和 邵隽 陈婷   

  1. 西安交通大学电信与信息工程学院,西安 710049
  • 出版日期:2012-02-25 发布日期:2012-07-12

  • Online:2012-02-25 Published:2012-07-12

摘要:

通过建立沟道区域和埋氧区域的二维泊松方程,并考虑衬底区域的掺杂和背栅偏压对器件阈值电压的影响,得到了一种正背栅全耗尽SOI-MOSFET二维阈值电压模型。根据模型计算结果,研究了衬底掺杂浓度和衬底(背栅)偏压对器件阈值电压的影响,通过与MEDICI数值模拟结果的比较表明,该模型能预计不同衬底掺杂浓度和衬底(背栅)偏压对阈值电压的影响,正确反映器件的短沟效应和背栅效应。

关键词: 全耗尽SOI-MOSFET, 背栅电压, 阈值电压解析模型