›› 2012, Vol. 34 ›› Issue (1): 29-34.
• 电子电工 • 上一篇 下一篇
张国和 邵隽 陈婷
出版日期:
发布日期:
Online:
Published:
摘要:
通过建立沟道区域和埋氧区域的二维泊松方程,并考虑衬底区域的掺杂和背栅偏压对器件阈值电压的影响,得到了一种正背栅全耗尽SOI-MOSFET二维阈值电压模型。根据模型计算结果,研究了衬底掺杂浓度和衬底(背栅)偏压对器件阈值电压的影响,通过与MEDICI数值模拟结果的比较表明,该模型能预计不同衬底掺杂浓度和衬底(背栅)偏压对阈值电压的影响,正确反映器件的短沟效应和背栅效应。
关键词: 全耗尽SOI-MOSFET, 背栅电压, 阈值电压解析模型
张国和 邵隽 陈婷. 正背栅SOI-MOSFET二维阈值电压解析模型[J]. , 2012, 34(1): 29-34.
0 / / 推荐
导出引用管理器 EndNote|Ris|BibTeX
链接本文: https://www.globesci.com/CN/
https://www.globesci.com/CN/Y2012/V34/I1/29