摘要： 采用浸渍-沉积方法在电沉积的多孔Cu薄膜上修饰一层纳米SnO2，经低温热氧化处理制备出多孔Cu2O/SnO2复合多层薄膜。运用扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、X-射线粉末衍射仪（XRD）、紫外可见漫反射光谱（UV-vis DRS）和荧光光谱（FS）技术表征了薄膜的结构、形貌和光学性质。测试了薄膜在可见光下降解罗丹明B（RhB）的性能。结果表明，在30 ℃的0.2 mol/L CuSO4+1.5 mol/L H2SO4镀液中，以1.5 A/cm2电流沉积20 s得到的多孔Cu薄膜，在SnO2溶胶中浸渍10 s并重复5次，再经空气气氛下100 ℃焙烧30 min，制得的多孔复合薄膜显示良好的可见光催化降解RhB的性能。
