›› 2010, Vol. 32 ›› Issue (4): 417-419,426.
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黄香平1,2 崔连武2 肖金泉2 闻火3 闻立时1,2
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利用ArF准分子激光对非晶硅薄膜的表层进行晶化后，采用拉曼光谱（Raman）、透射电镜（TEM）、场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）等实验方法研究不同激光能量密度下晶化层硅薄膜微结构变化。实验结果表明：随激光能量密度的增大，薄膜结晶度增大，晶化层厚度加厚；晶粒尺寸则是先增大，直到激光能量密度增大到210 mJ/cm2后，晶粒尺寸开始减小并且均匀性逐渐变差。最佳的激光能量密度范围为120~180 mJ/cm2，这时薄膜表面晶化层晶粒比较均匀致密，薄膜质量较好。
关键词: 准分子激光, 激光能量, 结晶度
黄香平 崔连武 肖金泉 闻火 闻立时. ArF准分子激光晶化非晶硅薄膜微结构研究[J]. , 2010, 32(4): 417-419,426.
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