›› 2008, Vol. 30 ›› Issue (3): 245-248.

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外加磁场对掺杂TiO2薄膜光催化活性的影响

尹荔松 范海陆  周克省 陈永平 谭敏   

  1. 中南大学物理科学与技术学院,长沙410083
  • 出版日期:2008-06-25 发布日期:2013-08-01

  • Online:2008-06-25 Published:2013-08-01

摘要:

利用外加匀强磁场辅助掺杂TiO2光催化降解偶氮胭脂红B溶液,实验探讨了外加磁场强度对Fe3+、Ni2+、Cu2+掺杂TiO2薄膜光催化活性的影响。结果表明:外加磁场使掺杂Ni2+/TiO2、Fe3+/TiO2薄膜的光催化活性降低,在磁感应强度为0.7×10-2T时,催化剂Fe3+/TiO2几乎完全失活,光催化降解率低于2.0%,而掺杂0.5% Cu2+/TiO2薄膜的光催化活性在磁场辅助下光催化活性普遍增强,感应强度为1.0×10-2T时光催化降解率达19.4%,相当于无外加磁场时的1.2倍;理论分析指出,磁场辅助对掺杂TiO2光催化活性的影响与掺杂离子的磁导率有关。

关键词: TiO2, 光催化, 磁场, 掺杂

中图分类号: